Indonesia merupakan negara penghasil biji kopi terbesar keempat di dunia setelah Brazil, Vietnam, dan Kolombia. Kopi merupakan tanaman yang bisa dijadikan sebagai minuman ataupun bahan dasar dari suatu produk. Kopi tersusun atas berbagai jenis bahan kimia seperti kafein, asam klorogenat, trigonelin, karbohidrat, lemak, asam amino, asam organik, dan berbagai minyak atsiri. Senyawa tersebut sangat berguna bagi tubuh manusia karena berfungsi sebagai antioksidan, antivirus, hepatoprotektif, dan berperan dalam kegiatan antispasmodik.
Di Indonesia ada berbagai macam jenis kopi, salah satunya adalah Kopi Tempur dari Kecamatan Keling, Kabupaten Jepara. Kopi Tempur dapat digunakan sebagai pengharum ruangan, produk kosmetik, dan lain-lain. Dalam industri kosmetik, diverifikasi kopi menjadi masker gel peel off yang diharapkan dapat meningkatkan nilai ekonomis dari kopi sehingga dapat meningkatkan perekonomian warga desa. Desa Tempur ini memanfaatkan kopi sebagai bahan dasar pembuatan masker gel peel off karena kopi bersifat sebagai antioksidan yang memiliki kandungan senyawa polifenol yang baik untuk mengatasi kulit wajah yang kusam, melembapkan kulit, mengangkat sel-sel kulit mati, melembapkan kulit, dan mencerahkan wajah. Pembuatan masker gel peel off dianggap berpotensi saat ini karena banyak wanita yang menggandrungi kosmetik, salah satunya adalah masker berbentuk gel peel off. Keuntungan dari masker gel peel off adalah mudah digunakan dan dibilas serta dibersihkan. Selain itu, masker gel peel off dapat diangkat atau dilepaskan seperti membran elastis.
Formula yang digunakan dalam pembuatan masker gel peel off meliputi zat aktif, basis gelling agent dan zat tambahan. Zat aktif yang digunakan biasanya berbentuk simplisa yang telah di ekstraksi. Senyawa pembentuk gel yang digunakan meliputi, gom arab, karbomer, turunan selulosa, HPMC, dan PVA. Sedangkan, zat tambahannya berupa pengawet, pelunak, pelembap, surfaktan, dan pewangi. Masker wajah ini diformulasikan dengan basis polivinil alkohol (PVA).
Sumber: stifar.ac.id https://repository.stifar.ac.id/Repository/article/view/271